濺射鍍膜
推薦磁控濺射鐵磁性靶材的主要方法
由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點(diǎn)是靶材表面的磁場(chǎng)達不到正常磁控濺射時(shí)要求的磁場(chǎng)強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度。
-
能量過(guò)濾磁控濺射技術(shù)室溫制備ITO膜的光電特性及其應用
本文利用該技術(shù)制備了TOLED器件的ITO陽(yáng)極，研究了ITO薄膜的結構、光學(xué)和電學(xué)性能，測試了TOLED的發(fā)光效率并與DMS 技術(shù)制備的器件作了對比。
-
低溫等離子體輔助脈沖直流磁控濺射制備TiN薄膜
采用一種新型的等離子體輔助脈沖直流磁控濺射濺射沉積方法，在低溫狀態(tài)下制備了氮化鈦薄膜，并對氮化鈦薄膜進(jìn)行了表征，研究了等離子體源在薄膜制備過(guò)程中的作用。
-
射頻磁控濺射法沉積SiC-Al薄膜的摩擦特性
通過(guò)使用雙靶位磁控濺射設備在Ti-6Al-4V合金上沉積了SiC-Al 薄膜，著(zhù)重研究了Al原子的濃度對SiC-Al薄膜的摩擦系數的影響以及Al中間層對界面強度的影響。
-
直流磁控濺射中矩形平面靶刻蝕形貌的數值計算及優(yōu)化
本文通過(guò)在基片和靶材間加正向電場(chǎng)，改變了電子的運動(dòng)軌跡和空間分布，優(yōu)化了矩形平面靶的刻蝕形貌，提高了靶材利用率。
-
MgO/Au復合薄膜的反應射頻磁控濺射法制備及表面形貌研究
本文采用反應射頻磁控濺射法制備MgO/Au復合薄膜，比較了Mg靶和Au靶共濺射、分步濺射制備復合薄膜的表面成分及形貌，研究了濺射時(shí)襯底溫度和Ar/O2氣體流量比對薄膜晶粒分布、晶粒尺寸和結晶取向的影響。
-
CSNS/RCS二極陶瓷真空盒磁控濺射鍍TiN薄膜研究進(jìn)展
為降低陶瓷表面的二次電子發(fā)射系數(SEY)，采用直流磁控濺射的方法，對二極陶瓷真空盒內壁鍍氮化鈦(TiN)薄膜工藝進(jìn)行實(shí)驗研究。
-
磁控濺射靶磁場(chǎng)的有限元模擬分析
本文應用COMSOL軟件對JGP450C型磁控濺射鍍膜機的圓平面靶表面磁感應強度進(jìn)行了模擬分析計算，得到了靶面水平磁感應強度較強、分布較均勻的磁鐵結構參數。
-
制備工藝對磁控濺射Mo-N薄膜微結構和性能的影響
本文采用射頻磁控濺射的方法，通過(guò)改變反應環(huán)境中的Mo 靶功率、氬氮比、負偏壓等制備一系列的Mo-N 薄膜，利用X 射線(xiàn)衍射儀、納米壓痕儀、掃描電子顯微鏡和摩擦磨損測試儀對其相結構、顯微硬度和摩擦性能進(jìn)行研究。
-
濺射靶材對TiAlN涂層形貌、結構和力學(xué)性能的影響
本文通過(guò)設計兩種靶材，分別是粉末冶金方法和真空熔煉方法制備的原子比為T(mén)i50Al50的合金靶材，在同一磁控濺射設備及同一濺射工藝條件下進(jìn)行鍍膜實(shí)驗，研究不同組織結構的Ti50Al50合金靶材對TiAlN涂層的組織結構和性
-
Se離子束輔助沉積CIS過(guò)程的數值分析
通過(guò)研究離子束輔助沉積與傳統氣相原子沉積生成CIS 薄膜的過(guò)程，從擴散均勻性角度分析，對離子束的注入深度效應進(jìn)行數值計算。
-
濺射膜電極與氧化鋅壓敏陶瓷的界面機制研究
利用濺射法制備半導體陶瓷表面的電極有著(zhù)廣闊的產(chǎn)業(yè)化前景，但關(guān)于濺射膜電極與陶瓷表面的界面機制研究尚鮮有報道。本文采用磁控濺射法在ZnO壓敏陶瓷表面制備了Cr+Cu電極，通過(guò)X射線(xiàn)光電子能譜等技術(shù)研究分析了Cr/Zn
-
FeCoB-Al2O3軟磁顆粒膜磁特性研究
為了獲得軟磁顆粒膜，本實(shí)驗采用了更易控制薄膜成分的射頻雙靶共濺射制備了一系列的( Fe40Co40B20)1 - x( Al2O3)x軟磁顆粒膜。通過(guò)振動(dòng)樣品磁強計( VSM) 以及矢量網(wǎng)絡(luò )分析儀( VNA) 的測量，研究了基片轉速、濺射氣壓
真空資訊
熱門(mén)專(zhuān)題
閱讀排行
- 1輝光放電與等離子體-磁控濺射基本原理與工況
本文講解了磁控濺射鍍膜靶電源一文中磁控濺射基本原理與工況章節
- 2影響磁控靶濺射電壓的幾個(gè)因素
影響磁控靶濺射電壓的主要因素有：靶面磁場(chǎng)、靶材材質(zhì)、氣體壓強
- 3各種濺射鍍膜方法的原理及特點(diǎn)
濺射鍍膜有多種方式，其典型方式如本文所示，表中列出了各種濺射
- 4XJPD-900磁控濺射設備的控制軟件編程及工藝試驗
本文對XJPD-900磁控濺射生產(chǎn)線(xiàn)的控制系統進(jìn)行了設計，重點(diǎn)對應用
- 5Al-Sn共摻雜ZnO薄膜的結構與光電性能研究
在固定ZnO:Al(AZO) 靶濺射功率不變的條件下, 研究了Sn 靶濺射功
- 6磁控濺射及磁控濺射產(chǎn)生的條件-磁控濺射基本原理
本文講解了磁控濺射鍍膜靶電源一文中磁控濺射基本原理與工況章節
- 7磁控濺射鐵磁性靶材的主要方法
由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點(diǎn)是靶材表面的磁場(chǎng)達不到正常磁控濺
- 8濺射鍍膜真空環(huán)境-磁控濺射基本原理與工況
本文講述了磁控濺射基本原理與工況中的濺射鍍膜真空環(huán)境。
- 9磁控濺射鐵磁性靶材存在的問(wèn)題
- 10常用的幾種塑料真空鍍膜材料
常用的幾種塑料真空鍍膜材料有：ABS塑料、聚酯、聚乙烯、聚氯乙