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推薦磁控濺射鐵磁性靶材的主要方法

由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點(diǎn)是靶材表面的磁場(chǎng)達不到正常磁控濺射時(shí)要求的磁場(chǎng)強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度。

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    濺射氣壓( 工作氣壓)是一個(gè)很重要的參數, 它對濺射速率, 沉積速率以及薄膜的質(zhì)量都有很大的影響。實(shí)驗得知濺射氣壓超過(guò)0.55Pa 后, 結合力和焊接合格率隨著(zhù)氣壓增大而迅速下降。因此, 認為0.5 Pa 左右的濺射氣壓是比

  • 濺射功率對金屬化薄膜性能的影響分析

    濺射功率對金屬化薄膜性能的影響主要表現在對成膜速率、薄膜形貌、薄膜性能等方面的影響，結合實(shí)驗，分別分析了各個(gè)影響。

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