無(wú)油渦旋真空泵的優(yōu)點(diǎn)

1．無(wú)油渦旋真空泵性能優(yōu)越

    無(wú)油渦旋真空泵的主要優(yōu)點(diǎn)主要包括：

    ①.密封性良好,沒(méi)有向機械泵那樣直接連接吸、排氣腔的泄漏通道,容易密封,容易達到較高的真空度。

    ②.回轉半徑小，動(dòng)靜渦旋盤(pán)相對滑動(dòng)速度僅為旋片真空泵的1/7左右，動(dòng)靜渦旋盤(pán)之間的動(dòng)密封相對容易，有利于延長(cháng)泵的使用壽命。

    ③壓縮進(jìn)程必較緩慢，有2個(gè)或者3個(gè)壓縮過(guò)程同時(shí)進(jìn)行，壓縮腔相對曲軸對稱(chēng)，這樣泵的運轉過(guò)程平穩、驅動(dòng)力矩和氣體沖擊波動(dòng)小，使泵的噪音和振動(dòng)降低。

    總而言之，無(wú)油渦旋真空泵結構簡(jiǎn)單、具有較高的壓縮比，在較寬的壓力范圍內有穩定的抽速，工作壓力范圍寬；動(dòng)靜渦旋盤(pán)之間間隙小、泄漏少，由于壓縮腔容積的變化是連續的，因而驅動(dòng)扭矩變化小，功率變化小,振動(dòng)噪聲低，可靠性高。這是其它類(lèi)型的干式真空泵所不具備的。

2．無(wú)油渦旋真空泵解決了污染與振動(dòng)等基礎、共性問(wèn)題

    由于普通旋片油泵的漏油、噪聲、返油污染、高能耗以及振動(dòng)等問(wèn)題給用戶(hù)造成不良影響，如生物制品行業(yè)與半導體行業(yè)的油蒸汽污染與工藝系統返油問(wèn)題。真空鍍膜設備的鍍膜工藝中，在20～40Pa真空條件下鍍膜時(shí)，如果應用普通旋片機械真空泵作為前級真空泵將對鍍膜工藝設備造成污染，影響成膜質(zhì)量。

      半導體晶片制造工藝當中使用油泵與使用于泵相比，成品率存在明顯的差距，并且排出的油霧蒸汽對環(huán)境也有污染.科學(xué)儀器行業(yè)尤其是在分析測試儀器行業(yè)，采用油泵對測試結果將造成不良影響。大型同步輻射光束線(xiàn)上采用無(wú)油渦旋真空泵作為前級真空泵的作用也相當明顯。另外無(wú)油渦旋真空泵消除了普通油泵的漏油給用戶(hù)帶來(lái)的環(huán)境污染與煩惱�，F有無(wú)油渦旋真空泵用戶(hù)的使用情況也證明了這種泵的優(yōu)越性和可靠性。

3.無(wú)油渦旋真空泵使系統制造與運行成本降低

    為防止普通旋片油真空泵對真空系統的返油污染,需要在抽氣系統中加冷阱捕獲油分子；系統運行過(guò)程當中還需要定期清洗除油；有的需要定期更換真空泵油.采用無(wú)油渦旋真空泵第一部需要加冷阱之類(lèi)捕油機構、第二不需要更換真空泵油、第三振動(dòng)更小、運行更平穩、第四能耗降低、第五重量更輕、第六突破了油泵使用范圍的限制。這些優(yōu)點(diǎn)使無(wú)油渦旋真空泵成為普通旋片油真空泵的更新?lián)Q代產(chǎn)品。