中國真空學(xué)會(huì )2016學(xué)術(shù)年會(huì )征文通知(第一輪）
中國真空學(xué)會(huì )2016 學(xué)術(shù)年會(huì )第一輪征文通知
由中國真空學(xué)會(huì )主辦、云南師范大學(xué)與北京大學(xué)承辦的中國真空學(xué)會(huì ) 2016 學(xué)術(shù)年會(huì )將于2016年8月12-14 日在云南省昆明市舉辦。熱切希望全體學(xué)會(huì )會(huì )員、理事及科研院所、企業(yè)同仁等踴躍撰稿，積極參加。
學(xué)術(shù)交流將采取多種形式：大會(huì )特邀報告，分會(huì )邀請報告，分會(huì )口頭報告，張貼報告， 以及真空產(chǎn)品推介等。 會(huì )間將頒發(fā) 2016 年度 “中國真空科技成就獎” 和 “中國真空科技青年創(chuàng )新獎”，并評選“最佳張貼報告獎” 。
本次會(huì )議共分12個(gè)研究主題：
1. 真空科學(xué)與技術(shù)、真空工程；
2. 表面科學(xué)與技術(shù)；
3. 應用表面科學(xué)與技術(shù)；
4. 納米科學(xué)與技術(shù)；
5. 納米生物與生物界面；
6. 薄膜生長(cháng)機理、制備技術(shù)和應用；
7. 真空獲得與測量、質(zhì)譜分析與檢漏；
8. 真空冶金與表面工程；
9. 電子材料與器件、真空微電子學(xué)；
10. 等離子體物理與技術(shù)；
11. 顯示技術(shù)；
12. 其它相關(guān)科學(xué)技術(shù)。
一、征文要求
1、本次學(xué)術(shù)會(huì )議歡迎與會(huì )者踴躍投稿，只需提交論文摘要(中、英文均可) ，網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。
2、本次會(huì )議的摘要投稿采用網(wǎng)上進(jìn)行，網(wǎng)站：www.cvsnet.org.cn，網(wǎng)站運行投稿時(shí)間為2016年2月，參會(huì )者需要先在網(wǎng)站上注冊(免費) ，然后根據摘要模板撰寫(xiě)摘要，并依照網(wǎng)站上的提示提交摘要。
3、開(kāi)會(huì )前將出版論文摘要集。為統一摘要格式，請采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。
4、網(wǎng)上投稿時(shí)請務(wù)必提供報告人、所屬的分會(huì )編號(大會(huì )邀請報告除外) 、以及報告類(lèi)型等信息。
5、摘要是否被錄用、以及報告類(lèi)型的決定將在2016年7月份另行通知作者。
6、對于口頭報告，會(huì )議準備有多媒體設備，但請自備 U 盤(pán)。張貼報告請行打印，尺寸：90cm× 120cm。
二、截稿日期
1、摘要截稿日期：2016年6月20日前。
2、摘要投稿過(guò)程中，如果遇到學(xué)術(shù)問(wèn)題，請與所屬分會(huì )的負責人聯(lián)系。
3、摘要投稿過(guò)程中，如果遇到技術(shù)問(wèn)題，請與中國真空網(wǎng)負責人聯(lián)系。
會(huì )務(wù)組：中國真空學(xué)會(huì )辦公室
地址：北京市朝陽(yáng)區建國路93號萬(wàn)達廣場(chǎng)9號樓612室
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