真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

　　在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會(huì )要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?

　　最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動(dòng)蒸發(fā)源，通過(guò)PID控制循環(huán)驅動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。

　　只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

　　此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時(shí)，它會(huì )變得對溫度非常敏感。在長(cháng)時(shí)間的加熱過(guò)程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。

　　光學(xué)監控是高精密鍍膜的的首選監控方式，這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。

　　精確度的改進(jìn)源于很多因素，但最根本的原因是對光學(xué)厚度的監控。