Ni，Cu納米線(xiàn)陣列以及Ni/Cu超晶格納米線(xiàn)陣列的光學(xué)

　　近年來(lái)，準一維納米結構材料由于其在新型的電子，光學(xué)以及光電器件中有著(zhù)潛在的應用價(jià)值，因此引起了廣泛的研究興趣。

　　最近，采用電化學(xué)淀積以及多孔陽(yáng)極氧化鋁模版生長(cháng)法(孔徑大�。�50 nm，背部濺射制作的金膜工作電極厚度：200 nm)成功地制備出Ni，Cu 以及Ni/Cu 超晶格納米線(xiàn)陣列。

　　在本文中，對這種納米線(xiàn)陣列結構進(jìn)行了光學(xué)實(shí)驗測量研究。樣品在可見(jiàn)到紅外波段的光學(xué)反射光譜通過(guò)成像光譜儀來(lái)記錄(測量范圍：400～2000nm)。實(shí)驗中，樣品的溫度分別被設定為4.2，70，15，200 K 以及室溫。發(fā)現，納米線(xiàn)陣列樣品的光學(xué)反射光譜強度和樣品的溫度密切相關(guān)。在可見(jiàn)光波段，所有樣品當溫度為200 K時(shí)光學(xué)反射光譜最強。然而，在紅外波段，樣品的光學(xué)反射光譜又表現出和可見(jiàn)光波段不同的特征。

　　最后討論了產(chǎn)生這些實(shí)驗現象的物理機制，這將有助于將金屬納米線(xiàn)陣列結構應用于光學(xué)以及光電器件中。