氦質(zhì)譜檢漏儀用于PECVD鍍膜設備檢漏應用實(shí)例

真空測量與檢漏 葉南晶 伯東企業(yè)（上海）有限公司 真空產(chǎn)品事業(yè)部

　　德國Pfeiffer HLT 560 氦質(zhì)譜檢漏儀用于PECVD 鍍膜設備檢漏應用實(shí)例(福建最大的太陽(yáng)能晶體硅電池制造公司)

一、鍍膜設備檢漏原因

　　福建最大的太陽(yáng)能晶體硅電池制造公司, 專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)太陽(yáng)能單晶和多晶電池片. 該公司在生產(chǎn)過(guò)程中應用了PECVD沉積 Si3N3減反層, 4-5天設備需要保養一次(清潔MASK, 更換支架等等), 由于是清潔設備內部, 所以存在內部腔體密封性失效的可能. 如果鍍膜設備密封性不好, 鍍出來(lái)的產(chǎn)品膜厚會(huì )不均勻, 產(chǎn)品四周膜參數會(huì )不合格.

　　如果鍍膜設備保養完成后, 能做一次檢漏, 就可以避免很多不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生, 達到節約生產(chǎn)成本的目的. 德國 Pfeiffer的HLT 560 氦質(zhì)譜檢漏儀具有操作簡(jiǎn)單, 反應靈敏的特點(diǎn), 得到了客戶(hù)的青睞.

二、鍍膜設備檢漏操作

　　示意圖如下:

鍍膜設備檢漏操作

鍍膜設備檢漏操作

　　1、將氦質(zhì)譜檢漏儀 HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.

　　2、啟動(dòng)檢漏儀, 檢漏儀開(kāi)始抽取密閉腔體中的氣體,同時(shí)啟動(dòng)鍍膜設備的泵組.

　　3、在鍍膜機內部的真空下降到一定程度的時(shí)候,如0.5 mbar以下的時(shí)候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標準保養時(shí)動(dòng)到的部位.這時(shí)需要有人觀(guān)察檢漏儀的漏率指示值的變化.當漏率上升或漏率值變化劇烈的時(shí)候,及時(shí)指出漏點(diǎn)所在位置,并做記號.

　　4、所有可疑點(diǎn)都檢測完成后,關(guān)閉檢漏儀,停下鍍膜機的泵組并將鍍膜機打開(kāi),將檢測出的漏點(diǎn)進(jìn)行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到所有漏點(diǎn)都被清除,檢漏過(guò)程完成.

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投稿公司介紹：

　　伯東公司 主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的 真空測量(真空計, 真空規管); 氦質(zhì)譜檢漏儀;質(zhì)譜分析儀;真空系統以及美國 Brooks CTI Cryo pump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門(mén), Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源.Gamma離子泵

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